타원형 모노캐필러리

타원형 X-ray 모노캐필러리는 이미징 단일 바운스 광학 시스템에 속합니다. 스팟 크기는 이미징 광학의 제조 정확도 (예 : 경사 오차, 진 직도 등) 및 소스의 특성에 영향을받습니다. 타원체의 주요 매개 변수는 특정 애플리케이션에 따라 최적화 되어야 합니다. 반사각이 임계각보다 낮아야하므로 타원체의 명확한 부분만 초점을 맞추기 위해 사용됩니다. 이미지 확대를 위해 이 부분은 소스가 위치한 첫 번째 초점과 타원체의 최대 직경 사이에 놓입니다. 이미지 축소를 위해 타원체의 반사 부분이 최대 직경 뒤에 놓입니다.

XRD, µXRF 및 싱크로트론 방사선에 대한 포커스 시스템