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Conteúdo de fósforo em níquel químico diretamente mensurável

Fósforo, cuja concentração influencia significativamente as propriedades mecânicas e magnéticas de um revestimento, é incorporado ao usar métodos típicos de deposição química ou química de níquel. A medição do teor de fósforo tem sido, portanto, um problema desde que o Ni não eletrolítico foi introduzido pela primeira vez para aplicações técnicas.

Até agora, a análise de fluorescência de raios-X - amplamente utilizada na indústria de galvanoplastia para medição de espessura de revestimento e análise de revestimento - só era capaz de determinar a concentração de fósforo indiretamente por meio da avaliação do sinal do material do substrato, restringindo a aplicabilidade da técnica em sistemas com substratos consistindo em apenas um elemento pesado. Além disso, uma espessura mínima de revestimento de cerca de 4 µm era necessária.

No entanto, usando o FISCHERSCOPE® X-RAY com detectores de desvio de silício de alta resolução (SDD), o sinal de fluorescência do fósforo pode ser medido diretamente, desde que as condições de excitação sejam selecionadas corretamente.

A profundidade da informação é muito superficial: a radiação de fluorescência apenas do 1 µm superior entra na avaliação do espectro; portanto, a interferência do reflexo de difração pode ser amplamente excluída. A incerteza de medição do teor de fósforo é de cerca de 0,5 por cento em massa.

Como a medição da espessura de um revestimento de NiP é realizada em condições de diferentes da determinação da concentração de P, essas duas aplicações de medição se complementam. A rastreabilidade pode ser garantida usando os respectivos padrões de calibração (com Fe, Cu, Al e PCB como materiais de substrato) da FISCHER.

A combinação de tecnologia de detecção de última geração, como SDD, múltiplas excitações em vários modos e o poderoso software de análise, WinFTM®, permite medições confiáveis e precisas da espessura do revestimento e do conteúdo de fósforo de revestimentos de níquel químico em uma ampla variedade de materiais de substrato. O FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-SDD une todos esses recursos de desempenho em um instrumento.

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